随着全面屏设计近年来成为了智能手机产品的标配，各方对于屏占比的追求也促使包括屏下摄像在内的多种解决方案出现，并且也使得屏占比已经愈发接近于100%。而在日前，维信诺方面则公布了屏幕边框低至1mm的InV silk极致窄边框技术，也使得屏占比得以更进一步的提升。
根据官方公布的相关信息显示，InV silk极致窄边框技术是借助新型电路设计和FIAA技术实现，并且还可使得屏幕功耗大幅下降。此外，维信诺方面还公布了AMOLED低频LTPS技术，HLEMS出光技术，以及COE技术三项OLED低功耗技术，首个支付级屏下3D人脸识别解决方案和应用于笔记本电脑的柔性中尺寸屏下摄像解决方案等。
尽管目前维信诺方面尚未透露InV silk极致窄边框技术的具体细节及量产时间，但这一技术无疑也将意味着智能手机屏占比将有望迎来进一步的提升，并且在配合屏下摄像技术后，也将带来更加接近100%的屏占比表现。而至于后续将由哪款机型首发InV silk极致窄边框技术，则还有待官方后续更进一步消息的确认，有兴趣的朋友不妨继续保持关注。
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